1、电子工业超纯水概述

　　半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。

　　我公司依据客户的特殊需求，应用超滤、反渗透、EDI、抛光混床等先进的技术产品，以满足不同的电子元器件生产对水质特殊的要求。产品水水质可达到我国电子级水质标准的各级指标要求。

　　2、制备电子工业超纯水的工艺流程

　　采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺。

　　3、其基本工艺流程

　　原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。

　　4、内蒙古电子工业超纯水设备特点

　　按需定制，柔性生产，技术领先，品质稳定，占地节省，维护简易。

　　5、标准法规

　　中国国家电子级超纯水规格 GB/T11446.1-1997。

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